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國立虎尾科技大學-光電工程系-奈米元件製程與量測研究室
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指導老師 (Adviser)

 

  鄭錦隆 博士
(Chin-Lung Cheng Ph. D.)
     
  電 話 (Phone): 05-6315396
     
  傳 真 (FAX):

05-6329257

     
  E-mail Address: chengcl@nfu.edu.tw
     
  地址: 63201雲林縣虎尾鎮文化路64號 國立虎尾科技大學 光電工程系
     
  辦公室 (Office): 綜三館三樓
   

 

  現職:

國立虎尾科技大學 光電工程系暨光電與材料科技研究所 教授

     
  學歷: 國立清華大學 工程與系統科學系 電子組 博士
     
  經歷: 國立虎尾科技大學 光電工程系暨光電與材料科技研究所 副教授
國立虎尾科技大學 機械與機電工程研究所 副教授
國立虎尾科技大學 機械與機電工程研究所 助理教授
國立虎尾科技大學 工程學院 院長特助
台灣小松電子材料股份有限公司(改名為台塑勝高科技), 離職時職位:晶圓課製造副課長
     
  目前研究領域: 固態電子元件(Solid-State Electronic Devices)之
矽基太陽能電池(Silicon-Based Solar Cells)
金氧半元件(Metal-Oxide-Semiconductor Devices)
非揮發性記憶體元件(Nonvolatile Memory Devices)
  1. 矽基太陽能電池用電洞選擇性材料(Hole-selective contact layers)及電子選擇性材料(Electron-selective contact layers)
  2. 矽基太陽能電池用電鍍技術(Electroplating Technology)及雷射技術(Laser Technology)
  3. 矽奈米線(Silicon Nanowire), 奈米碳管(Carbon Nanotube)
  4. 金氧半元件用高介電係數材料(High-k Materials)/金屬閘極(Metal Gate)
  5. 非揮發性記憶體元件用奈米晶體(Nano-Crystal Particles)

     
  學術活動:
  • Electrochemical Society Member
  • IEEE Member
  • IEDMS2008 Session Chair and Best Student Paper Reviewer
  • Referee of Solid-State Electronics (SCI Journal)
  • Referee of Microelectronics Engineering (SCI Journal)
  • Referee of IEEE Electron Device Letters (SCI Journal)
  • Referee of IEEE Transactions on Electron Devices (SCI Journal)
  • Referee of Electrochemical and Solid-State Letters (SCI Journal)
  • Referee of IEEE Transactions on Device and Materials Reliability (SCI Journal)
  • Referee of Microelectronics Reliability (SCI Journal)
  • Referee of TELKOMNIKA Indonesian Journal of Electrical Engineering
  • 受邀中正大學機械所演講(95上學期):Nanotechnology on nanoelectronics Applications
  • 受邀茂德科技演講(95, 96 and 97上學期):High-k material for CMOS and DRAM Applications
  •      
      Biography:

    Chin-Lung Cheng was born in Yunlin, Taiwan, R.O.C. He received the Ph. D. degree in engineering and system science from National Tsing-Hua University (NTHU), Hsinchu, Taiwan, R.O.C., in 2005. From 1996 to 2001, he was with the Department of Technology and Process Development, Formosa Komatsu Silicon Corporation (FKS), Taiwan, R.O.C. as a process manager. In 2005, he joined the faculty at the National Formosa University, Yunlin. His current research project involves novel high-k dielectrics and metal gate for MOS technology, carbon nanotube and silicon nanowire for nanoelectronics devices applications, cleaning and etching process, flash memory devices, and silicon-based solar cells