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由於光學量測技術同時具備高敏感性與非破壞性的優點,因此於廣泛用於不同的領域之工程問題,此外,薄膜材料亦已大量應用於半導體生醫及顯示器等領域,由於薄膜的厚度極為微薄,其所展現之特性亦適用於相同材料,因此,本實驗室將致力於建立相關光學量測技術於薄膜力學特性之量測與分析。

地址:綜二館 2F

電話:(05)631-5438 分機205